Највећа количина електронског специјалног гаса - азот трифлуорида НФ3

Посемичка индустрија наше земље и индустрија панела одржавају висок ниво просперитета. Трифлуорид азота, као неопходан и највећи обимни посебан електронски гас у производњи и преради плоча и полуводича, има широк тржишни простор.

Обично коришћени посебни електронски гасови који садрже флуориниСулпхур Хекафлуориде (СФ6), волфрам Хекафлуориде (ВФ6),Царбон Тетрафлуориде (ЦФ4), трифлуорометан (ЦХФ3), азот трифлуорид (НФ3), хексафлуороетхан (Ц2Ф6) и октафлуоропропан (Ц3Ф8). Азот трифлуорид (НФ3) се углавном користи као извор флуора за хидроогено-флуоридну гас високоенергетски хемијски ласери. Ефективни део (око 25%) реакционе енергије између Х2-О2 и Ф2 може се ослобађати ласерско зрачење, па је ХФ-ласери најперспективнији ласери међу хемијским ласерима.

Трифлуорид азота је одлична гас за едужење у плазми у индустрији микроелектронике. За суширање силицијума и силицијума нитрида, азот трифлуорид има већу стопу и селективност од карбонског тетрафлуорида и мешавину угљеног тетрафлуорида и кисеоника и нема загађења на површини. Поготово у уништавању интегрисаних круга са дебљином мањим од 1,5ум, азот трифлуорид има веома одличну стопу и селективност, не остављајући остатке на површини јетканог објекта, а такође је такође добро средство за чишћење. Са развојем нанотехнологије и великим развојем електроничке индустрије, његова потражња ће се повећати из дана у дан.

Као врста специјалног гаса који садржи флуорински, азот трифлуорид (НФ3) највећи је електронски специјални гасни производ на тржишту. Хемијски је инерт на собној температури, активнији од кисеоника, стабилније од флуорина и лако руковање на високој температури.

Трифлуорид азота се углавном користи као средство за чишћење гаса и чишћења гаса у плазми, погодан за производњу поља као што су полуводички чипс, дисплеји равног панела, оптичка влакна, фотонапонске ћелије итд.

У поређењу са другим електронским гасовима који садржи флуор, азот трифлуорид има предности брзе реакције и високе ефикасности, посебно у јеткању силицијума који садрже силицијум, као што је силицијум нитрид, он има високу стопу и селективност, не остављајући остатке на површини јетканог објекта, а такође није загађивао на површини и не загађиваће се на површину и не загађује се на површину и не загађује се на површину и не загађује се на површину и може да задовољи потребе процеса обраде.