Технологија суве јетње је један од кључних процеса. Гас сувог јеткања је кључни материјал у производњи полуводича и важним извором гаса за јеткање плазме. Његов наступ директно утиче на квалитет и перформансе коначног производа. Овај чланак углавном дели шта су најчешће коришћени гасови за сушти у процесу сувог јеткања.
Гасови на бази флуора: као што јеЦарбон Тетрафлуориде (ЦФ4), хексафлуороетхане (Ц2Ф6), трифлуорометхани (ЦХФ3) и перфлуоропропан (Ц3Ф8). Ови гасови могу ефикасно да стварају испарљиве флуориде приликом јеткања једињења силицијума и силикона, чиме се постижу уклањање материјала.
Гасови на бази хлора: као што је хлор (ЦЛ2),Борон Трихлорид (БЦЛ3)и силицијум тетрахлорида (СИЦЛ4). Гасови на бази хлора могу пружити хлоридне јоне током процеса јеткања, што помаже у побољшању стопе и селективности.
Гасови на бази брома: као што је бром (БР2) и бром јодид (ИБР). Гасови на бази брома могу да пруже боље перформансе јетње у одређеним процесима за стругање, посебно када је утишавају чврсти материјали као што су силицијум карбида.
Гасови на бази азота и кисеоника: као што је азот трифлуорид (НФ3) и кисеоник (О2). Ови гасови се обично користе за прилагођавање реакционих услова у процесу јеткања ради побољшања селективности и усмеравања јеткања.
Ови гасови постижу прецизно уништење материјалне површине путем комбинације физичких пуцњава и хемијских реакција током јеткања у плазми. Избор гаса за етцхинг зависи од врсте материјала који ће бити урезан, селективне захтеве за уништавањем и жељеном стопом јеткања.
Вријеме поште: феб-08-2025
